我司是由国外从事纳米涂层材料研究十年之久的留学生组成的团队，结合全德国、日本进口设备基础，开创全国领先的独家创新纳米涂层工艺。采用德国技术，提供全系列PVD涂层服务，主要有类金刚石涂层（DLC），氮化钛涂层（TiN）,氮化铬涂层（CrN）,氮碳化钛涂层（TiCN）,氮铝化钛涂层（AlTiN），氮化铬铝（AlCrN）,复合涂层DCT,纳米复合超硬涂层系列LT-XZ、LT-DA、LT-DT等。

单体式CVD真空设备

      化学气相沉积（CVD）技术是用来制备高纯、高性能固体薄膜的主要技术。致力于为集成电路、半导体照明、微机电系统、功率半导体、化合物半导体、新能源光伏等领域提供各种类型的CVD设备，满足客户多种制造工艺需求。
     适用于半导体照明LED、功率器件、先进封装行业、光伏电池、集成电路 IC、微机电系统 MEMS等行业。
单体式PVD真空设备

   磁控溅射技术属于PVD（物理气相沉积）技术的一种，是制备薄膜材料的重要方法之一。磁控溅射设备使得镀膜厚度及均匀性可控，且制备的薄膜致密性好、粘结力强及纯净度高。设备应用跨越多个技术代表着国产集成电路薄膜制备工艺设备的较高水平
   适用于集成电路IC、功率器件、半导体照明LED、先进封装、模具，各行业零配件等。

新能源复合铜箔溅射设备

机型1：

机型2：

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